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    APPLIED MATERIALS ESC ASSY 200MM FLAT 0040-05592

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    APPLIED MATERIALS ESC ASSY 200MM FLAT 0040-05592
    产品详情

    APPLIED MATERIALS ESC ASSY 200MM FLAT 0040-05592

    SG·胜游亚洲主营AMAT TEL LAM?Varian BROOKS MKS?SMC COMET VAT等品牌半导体设备,零件。

    由于FAB设备的部件型号比较多,不能 列举,如果有其它型号的零部件需要,请随时联系SG·胜游亚洲。

    联系电话:021-6838 8387

    SG·胜游亚洲SG·胜游亚洲致力于为国内半导体制造企业提供快速高效的设备,部件,耗材和维修服务。

    我们跟国内外多家设备制造商,经销商,零部件贸易商,晶圆厂,高校,研究所有长期的接触和联系,我们有能力保证品质并提供有竞争力的价格。

    APPLIED MATERIALS ESC ASSY 200MM FLAT 0040-05592

    Endura?物理气相沉积(PVD)系统

    核心功能

    金属互连沉积(Cu/Co/Ru)

    高深宽比结构填充(最高30:1)

    新型二维材料集成(MoS?/WSe?

    技术规格

    技术创新

    离子化PVD技术

    离化率>90%

    深宽比填充能力15:1

    阶梯覆盖率>95%

    低温沉积工艺

    工艺参数示例:

    - 工作压力:3mTorr

    - RF功率:500W

    - 基板温度:150℃(传统工艺250℃)

    行业应用案例

    ▌台积电3nm工艺

    16层铜互连结构

    互连电阻降低18%

    良率提升7%

    ▌美光176层3D NAND

    字线沉积(深宽比30:1)

    单元间距缩小至25nm

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    核心功能

    金属互连沉积(Cu/Co/Ru)

    高深宽比结构填充(最高30:1)

    新型二维材料集成(MoS?/WSe?

    技术规格

    技术创新

    离子化PVD技术

    离化率>90%

    深宽比填充能力15:1

    阶梯覆盖率>95%

    低温沉积工艺

    工艺参数示例:

    - 工作压力:3mTorr

    - RF功率:500W

    - 基板温度:150℃(传统工艺250℃)

    行业应用案例

    ▌台积电3nm工艺

    16层铜互连结构

    互连电阻降低18%

    良率提升7%

    ▌美光176层3D NAND

    字线沉积(深宽比30:1)

    单元间距缩小至25nm

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